化學機械研磨后清洗技術簡介_百度文庫
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芯片(pian)制(zhi)(zhi)造化學機(ji)(ji)械(xie)研磨(mo)廢水處理(li)回用摘要:化學機(ji)(ji)械(xie)研磨(mo)廢水產(chan)生量大但總體(ti)污(wu)染物濃度不高,回用潛力巨大,其處理(li)及回用技(ji)術是芯片(pian)制(zhi)(zhi)造企(qi)業的研究。文章。
化學機械研磨廢水處理及回用技術的研究進展-《環境科學與技術》
“楔形”TEM樣(yang)品的(de)機械(xie)研磨制備技術張啟華,趙燕麗,高(gao)強,李明,牛崇(chong)實,簡維廷(中芯國際集成電路制造有限公司,上海201203)摘要:介紹了一種用機械(xie)。
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本發(fa)明提(ti)供了一種化學(xue)機械(xie)研磨(mo)的方法,包括下列步(bu)驟:提(ti)供半(ban)導(dao)體襯底(di),所(suo)述半(ban)導(dao)體襯底(di)上(shang)具有(you)介質(zhi)層(ceng),所(suo)述介質(zhi)層(ceng)內包含通(tong)(tong)孔(kong)和/或溝槽(cao);在(zai)介質(zhi)層(ceng)上(shang)及(ji)通(tong)(tong)孔(kong)和/或溝槽(cao)的。
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英(ying)特爾半導體(大(da)連)有(you)限(xian)公司招聘化學機(ji)械研(yan)磨液(ye)技術員,發布時間:2010年04月09日,職位(wei)類(lei)別(bie):全(quan)職,工(gong)(gong)作地區:大(da)連,職位(wei)描述(shu):化學機(ji)械研(yan)磨液(ye)技術員工(gong)(gong)作要求(qiu):?輔(fu)助(zhu)工(gong)(gong)程師。
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銅互(hu)連和低K材料是半導體(ti)深亞微米工藝中涉及的(de)(de)(de)兩(liang)個重要的(de)(de)(de)技術,而這兩(liang)種新技術的(de)(de)(de)發展也給傳統的(de)(de)(de)化學機械研磨(CMP)工藝提出了(le)挑戰(zhan)。
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本實用新型涉(she)及一種化學機械研(yan)磨設(she)備,包括:研(yan)磨臺(tai)支(zhi)架(jia);少兩個研(yan)磨臺(tai),由下(xia)上分層設(she)置于(yu)所述研(yan)磨臺(tai)支(zhi)架(jia)中,每一所述研(yan)磨臺(tai)上表面(mian)設(she)置有研(yan)磨墊,下(xia)表面(mian)設(she)置有支(zhi)撐。
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2012年1月18日-什(shen)么是(shi)研磨(mo)加(jia)工(gong)?發(fa)布時間:2013-01-18來源(yuan):機械(xie)專家網利(li)用(yong)涂敷或壓嵌在(zai)研具上的磨(mo)料顆粒,通過研具與工(gong)件在(zai)一定壓力(li)。
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先進銅化學機械研磨技術半導體工藝突破65nm節點-測試與測量-
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